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產(chǎn)品中心

Product Center
  • 阿瑞斯-µVOC半導體潔凈室氣體分析監測系統

    半導體潔凈室氣體分析監測系統通過(guò)污染物源頭控制、傳播控制,實(shí)時(shí)監控污染物濃度并結合多級過(guò)濾器以及新風(fēng)系統來(lái)實(shí)現,持久監測AMC濃度,有助于掌握污染物源頭、穩定生產(chǎn)、預防過(guò)濾器突發(fā)性壽命減少等。

    更新時(shí)間:2024-08-28
    產(chǎn)品型號:阿瑞斯-µVOC
    瀏覽量:2651
  • DKCSF MS-1煤自燃束管監測

    煤自燃束管監測特點(diǎn):粉塵過(guò)濾器、單管、束管、分路箱、抽?泵、?體采樣控制柜、監控微機、懸臂梁?克風(fēng)光聲光譜多?體分析儀、熱導多?體分析儀、打印輸出設備、網(wǎng)卡、系統軟件組成。

    更新時(shí)間:2024-11-01
    產(chǎn)品型號:DKCSF MS-1
    瀏覽量:561
  • 獵戶(hù)座 3100S空氣分子污染物監測系統

    空氣分子污染物監測系統快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類(lèi)、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類(lèi)等濃度測量,當這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應 時(shí),將深深的影響半導體器件質(zhì)量。

    更新時(shí)間:2024-08-29
    產(chǎn)品型號:獵戶(hù)座 3100S
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  • 阿瑞斯-μVOCAMC監測空氣分子污染物系統

    潔凈室環(huán)境中的空氣分子污染物AMC,內部來(lái)自建筑材料釋出、設備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過(guò)程中化學(xué)藥品逸散、人員產(chǎn)生、管路泄露、設備維護修理時(shí)散發(fā)等,外部來(lái)自環(huán)境空氣中存在的氣相污染物,以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。

    更新時(shí)間:2024-08-29
    產(chǎn)品型號:阿瑞斯-μVOC
    瀏覽量:696
  • AMC監測

    AMC監測快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業(yè)要求之一。

    更新時(shí)間:2024-11-01
    產(chǎn)品型號:
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